第15回研究会『PFASの計測・分解処理技術とプラズマプロセス』：研究会一覧：DXプラズマプロセス委員会：JSPS日本学術振興会

(独)日本学術振興会 R052 DXプラズマプロセス委員会　第15回研究会
『PFASの計測・分解処理技術とプラズマプロセス』

日　時：	2026年4月21日（火）13:00～17:10
会　場：	東京　ベルサール八重洲 2階　（Room E）
趣　旨：	PFASは1万種類以上ある有機フッ素化合物の総称で、欧州連合（EU）を中心に世界的に製造や使用などを制限する動きが広がっている。PFASは半導体プロセスで反射防止剤やフォトレジストで、また電子機器の製造でも使用されおり、プラズマプロセスにとってもその扱いは重要な課題である。PFASを使わない半導体材料の開発、また工場排水に含まれるPFASの計測や処理技術が重要となる。そこでPFASの現状、世界動向最新技術に関する研究会を開催し、未来のプラズマプロセスの形を議論する。

13:00-13:10	総会日本学術振興会 R052 DXプラズマプロセス委員会委員長　東北大学　金子俊郎
13:10-13:20	趣旨説明名城大学　内田儀一郎
13:20-14:20	基礎講座 PFAS対策技術コンソーシアム　山下信義先生「地政学的視点から見たPFAS対策技術の現状と将来展望」　（ZOOMオンライン発表）
14:20-14:40	休憩
14:40-15:20	招待講演中央大学　山村寛先生「水中PFAS処理の技術開発と展望」
15:20-16:00	招待講演東京科学大学　竹内希先生「プラズマを利用したPFAS処理の可能性」
16:00-16:20	休憩
16:20-16:50	招待講演ウシオ電機株式会社　大塚　優一様「真空紫外光を利用したPFAS分解技術の紹介」
16:50-17:10	会員紹介
17:30-19:30	総合討論