東京　ベルサール八重洲 2階

近年、半導体製造において「中工程」という新たな概念が注目されています。この中工程は、前工程と後工程の間に位置し、半導体製品の高集積化、高速伝送化や、異なる機能を持つチップを立体的に実装することによる高機能化の可能性をにぎる重要な工程であり、日本のプロセス技術や設備技術の強みが発揮できる大きな可能性があります。本研究会では、半導体の中工程と後工程を支えるプラズマ技術とデジタルトランスフォーメーション（DX）に焦点を当てます。特に、中工程には本研究会では、プラズマ技術の最新の研究成果やDXの実践事例を通じて、半導体モノづくりの革新に向けた議論を行います。